
~~Free consultant(免費顧問) ~~Industrial Doctor(工業醫生) ~~Cosmetic formulation(化粧品配方) ~~Energy save(重油乳化) ~~AR glass(抗反射處理) ~~High performance coating(特殊需求塗佈) ~~Composite(複合材料) ~~Structural adhesive(結構膠) ~~Mold release(離型劑)
Monday, July 20, 2009
Tuesday, July 14, 2009
徵求人才
招募 儲備經理 儲備幹部
茲受某機構委託, 遴選 儲備經理 儲備幹部 各數名
儲備經理條件
1. 熱愛台灣
2. 理想性格
3. 群眾魅力
4. 組織力強
5. 領導力佳
6. 願意學習
7. 服從性高
8. 大學以上
9. 30~40 歲
10। 男女不拘
儲備幹部條件
1. 熱愛台灣
2. 有正義感
3. 關懷弱勢
4. 理解力強
5. 行動能力
6. 願意學習
7. 服從性高
8. 大學以上
9. 21~30 歲
10. 男女不拘
待遇: 非常優渥 (個別面議)
意者請備學歷,履歷, 舉證說明,
Mail: davidlu001@yahoo.com
條件不合者請勿應徵
茲受某機構委託, 遴選 儲備經理 儲備幹部 各數名
儲備經理條件
1. 熱愛台灣
2. 理想性格
3. 群眾魅力
4. 組織力強
5. 領導力佳
6. 願意學習
7. 服從性高
8. 大學以上
9. 30~40 歲
10। 男女不拘
儲備幹部條件
1. 熱愛台灣
2. 有正義感
3. 關懷弱勢
4. 理解力強
5. 行動能力
6. 願意學習
7. 服從性高
8. 大學以上
9. 21~30 歲
10. 男女不拘
待遇: 非常優渥 (個別面議)
意者請備學歷,履歷, 舉證說明,
Mail: davidlu001@yahoo.com
條件不合者請勿應徵
Monday, June 15, 2009
GaN
Kyma Technologies
Kyma produces and markets semiconductor products related to gallium nitride (GaN), aluminum nitride (AlN), and other group III-nitride based alloys. The properties of these new materials promise to revolutionize numerous industries, particularly solid state lighting, power switching, and high temperature electronics.
Kyma offers an array of nitride based products:
GaN substrates
GaN and AlN templates
GaN device epitaxy
High purity polycrystalline GaN
Kyma produces and markets semiconductor products related to gallium nitride (GaN), aluminum nitride (AlN), and other group III-nitride based alloys. The properties of these new materials promise to revolutionize numerous industries, particularly solid state lighting, power switching, and high temperature electronics.
Kyma offers an array of nitride based products:
GaN substrates
GaN and AlN templates
GaN device epitaxy
High purity polycrystalline GaN
Labels:
Gallium Nitride (GaN) Substrates,
template
ASM 2000--- 強化液涂佈控制系統
ASM 2000 控制/量測:
# 強化槽的高低水位 (高,低, 太低),# 強化液的密度,# 強化液的溫度, # 強化液過濾的速度
ASM 2000 ---適合安裝在各種強化系統
強化槽液面接觸到低水位時, sensor 就會送回信號並通知補充櫃進行強化液和溶劑的補充, 直到強化槽液面達到高水位. 以30 公升的強化槽為例, 每次的添加量在50 ~ 80 cc 之間
ASM 2000 帶來什麼改善?
藉傳感技術, 消除操作者的人為誤差, 連續式校正, 將添加量控制到最小, 進而維持品質的均一:
ASM 2000 有什麼好處?
1- 人力減少: 人工添加,每班必需有一個技術員, 從事取樣/分析和添加藥水的工作. 每班兩次, 每次需要30 分鐘.
2- 減少生產停機時間:
補充藥水和溶劑後, 必需等待混合均勻才能生產. 否則, 鏡片立刻產生不良. 每班兩次, 每次需要等待15 分鐘.
3- 避免操作失誤:
a- 藥水添加過量引起外觀不良和藥水壽命減短(一次添加量超過50%)
b- 拿錯藥水, 這種事常常發生. 生產線必需停工, 清潔更新
c- 藥水降到低水位卻沒注意到. 氣泡產生造成鏡片品質不良. 泵空轉也會引起火災.經驗顯示, a- 狀況平均3個月會發生一次, b-狀況平均18個月會發生一次. c-狀況平均6個月會發生一次. 如果以藥劑的5.5% 計算財務損失, 每公斤 200.00 €的藥水可生產2500片鏡片, 每個鏡片必需負擔 0.08 €.
4- 品質改善: 自動控制讓生產主管可以設定在最好的耐磨條件, 避免流痕和太厚造成的龜裂. 經驗顯示, 不良率可以減少 3%. 相對的, 藥水支出也可減少3%.
5- 藥水節省: 經驗顯示, 維持一定的密度可以節省6 % 藥水用量. 因為 a- 強化膜厚度一致,b- 強化劑壽命較長
6- 節省生產和品檢時間:6-1 外觀不良: 鏡片如果出現 (點, 波紋….), 那就是不良. 只能丟掉. 經驗顯示, 可以提升3% 產能, 減少 3% 藥水用量. 6-2 功能性不良:
如果厚度超過設定值, 後段的抗反射電鍍就容易龜裂, 造成客戶的退貨. 太薄雖然不會龜裂,耐磨卻有問題. 管理的疏忽不只是賠償的問題, 也是商譽的問題.
投資報酬率: 保證10 個月內還本,davidlu001@yahoo.com, 手機: 0933187255
# 強化槽的高低水位 (高,低, 太低),# 強化液的密度,# 強化液的溫度, # 強化液過濾的速度
ASM 2000 ---適合安裝在各種強化系統
強化槽液面接觸到低水位時, sensor 就會送回信號並通知補充櫃進行強化液和溶劑的補充, 直到強化槽液面達到高水位. 以30 公升的強化槽為例, 每次的添加量在50 ~ 80 cc 之間
ASM 2000 帶來什麼改善?
藉傳感技術, 消除操作者的人為誤差, 連續式校正, 將添加量控制到最小, 進而維持品質的均一:
ASM 2000 有什麼好處?
1- 人力減少: 人工添加,每班必需有一個技術員, 從事取樣/分析和添加藥水的工作. 每班兩次, 每次需要30 分鐘.
2- 減少生產停機時間:
補充藥水和溶劑後, 必需等待混合均勻才能生產. 否則, 鏡片立刻產生不良. 每班兩次, 每次需要等待15 分鐘.
3- 避免操作失誤:
a- 藥水添加過量引起外觀不良和藥水壽命減短(一次添加量超過50%)
b- 拿錯藥水, 這種事常常發生. 生產線必需停工, 清潔更新
c- 藥水降到低水位卻沒注意到. 氣泡產生造成鏡片品質不良. 泵空轉也會引起火災.經驗顯示, a- 狀況平均3個月會發生一次, b-狀況平均18個月會發生一次. c-狀況平均6個月會發生一次. 如果以藥劑的5.5% 計算財務損失, 每公斤 200.00 €的藥水可生產2500片鏡片, 每個鏡片必需負擔 0.08 €.
4- 品質改善: 自動控制讓生產主管可以設定在最好的耐磨條件, 避免流痕和太厚造成的龜裂. 經驗顯示, 不良率可以減少 3%. 相對的, 藥水支出也可減少3%.
5- 藥水節省: 經驗顯示, 維持一定的密度可以節省6 % 藥水用量. 因為 a- 強化膜厚度一致,b- 強化劑壽命較長
6- 節省生產和品檢時間:6-1 外觀不良: 鏡片如果出現 (點, 波紋….), 那就是不良. 只能丟掉. 經驗顯示, 可以提升3% 產能, 減少 3% 藥水用量. 6-2 功能性不良:
如果厚度超過設定值, 後段的抗反射電鍍就容易龜裂, 造成客戶的退貨. 太薄雖然不會龜裂,耐磨卻有問題. 管理的疏忽不只是賠償的問題, 也是商譽的問題.
投資報酬率: 保證10 個月內還本,davidlu001@yahoo.com, 手機: 0933187255
Thursday, April 16, 2009
Gallium Nitride (GaN) Substrates
Gallium Nitride (GaN) Substrates
Gallium nitride substrates are matched in lattice constant and thermal expansion properties for epitaxial growth of doped GaN layers needed for fabrication of GaN-based devices. This eliminates stress and defects induced by growing GaN epi-layers on non-nitride substrates such as sapphire or silicon carbide, which increase device fabrication complexity and cost and compromise device performance. Kyma's high purity GaN substrate allows GaN-based device manufacturers to eliminate processing steps and improve device quality over those grown on other substrates.
Kyma currently offers GaN substrates to fill the needs of many applications. Detailed product descriptions and specification sheets are listed below:
C-Plane, N-Type Gallium Nitride (GaN) Substrates
2" rounds, 18x18mm and 10x10mm squares
Specification sheet
Click here to inquire
C-Plane, Semi-Insulating Gallium Nitride (GaN) Substrates
18x18mm and 10x10mm squares
Specification sheet
Click here to inquire
Non-polar, N-Type Gallium Nitride (GaN) Substrates
50mm2 and 100mm2 bars
M-plane [1-100], A-plane [11-20]
Other planes available on request
Specification sheet
Click here to inquire
Specification Sheet Characterization Methods
Characterization of gallium nitride wafers as shown in our specification sheets is completed using the following methods:
Wafer thickness, Bow and TTV are determined by a Sigmatech thickness mapper for round substrates. Square substrates are measured manually at predetermined points on the wafers.
Wafer orientation is determined by x-ray diffraction
Conductivity is determined by Lehighton (n-type, semi-insulating) and/or Corema measurements (semi-insulating) and/or Hall measurements for our boule recipes, but are not made on all wafers shipped.
Dislocation density is determined via etch pit density measurements followed by AFM and/or micro-cathodoluminescence (Micro-CL), but are not made on all wafers shipped.
Macro defects are on the surface of the wafer and are counted by visual inspection.
Surface roughness information is determined by atomic force microscopy (AFM) for the front surface finish. The typical image size for the measurement is 20x20 microns.
Gallium nitride substrates are matched in lattice constant and thermal expansion properties for epitaxial growth of doped GaN layers needed for fabrication of GaN-based devices. This eliminates stress and defects induced by growing GaN epi-layers on non-nitride substrates such as sapphire or silicon carbide, which increase device fabrication complexity and cost and compromise device performance. Kyma's high purity GaN substrate allows GaN-based device manufacturers to eliminate processing steps and improve device quality over those grown on other substrates.
Kyma currently offers GaN substrates to fill the needs of many applications. Detailed product descriptions and specification sheets are listed below:
C-Plane, N-Type Gallium Nitride (GaN) Substrates
2" rounds, 18x18mm and 10x10mm squares
Specification sheet
Click here to inquire
C-Plane, Semi-Insulating Gallium Nitride (GaN) Substrates
18x18mm and 10x10mm squares
Specification sheet
Click here to inquire
Non-polar, N-Type Gallium Nitride (GaN) Substrates
50mm2 and 100mm2 bars
M-plane [1-100], A-plane [11-20]
Other planes available on request
Specification sheet
Click here to inquire
Specification Sheet Characterization Methods
Characterization of gallium nitride wafers as shown in our specification sheets is completed using the following methods:
Wafer thickness, Bow and TTV are determined by a Sigmatech thickness mapper for round substrates. Square substrates are measured manually at predetermined points on the wafers.
Wafer orientation is determined by x-ray diffraction
Conductivity is determined by Lehighton (n-type, semi-insulating) and/or Corema measurements (semi-insulating) and/or Hall measurements for our boule recipes, but are not made on all wafers shipped.
Dislocation density is determined via etch pit density measurements followed by AFM and/or micro-cathodoluminescence (Micro-CL), but are not made on all wafers shipped.
Macro defects are on the surface of the wafer and are counted by visual inspection.
Surface roughness information is determined by atomic force microscopy (AFM) for the front surface finish. The typical image size for the measurement is 20x20 microns.
Tuesday, April 14, 2009
高密度二氧化矽薄膜(High Density Silicon Dioxide Films)
Seramic SI
高密度二氧化矽薄膜(High Density Silicon Dioxide Films)
特點:用浸塗或自旋塗佈提供耐熱絕緣層
電子 – 半導體設計和電容的絕緣層
光學 –玻璃和石英表面的防擴散
說明:
Seramic SI is a -chloroethylsilsesquioxane solution in methoxypropanol.
薄膜特性:
透明
介電常數: 3.2-३.6
折射率:
硬化前-- १.५
硬化後-- 2.1-2.2
溶液性質
固含量 14-16%
密度 0.96 g/cc
黏度 3-5 cSt.
閃點 35°C
儲存: 5°C下密封,6個月. 打開前先加溫到 15°C
注意:
在通風無火源下使用, 避免皮膚和眼睛直接接觸
使用方法:
熱固化型-
用浸塗或自旋塗佈, 溶劑揮發後, 300°C 下加熱 30-60分鐘
自旋塗佈, 塗膜的厚度大約 1500-2000 Å
如果需要更薄, 可以用methoxypropanol 或diglyme 稀釋. 加熱過程有少量的乙稀和鹽酸氣體釋出
UV固化型- -
藉 deep UV (<210nm) 固化. 深紫外線照射區耐溶劑侵蝕, 未曝光區域可用溶劑洗去,
davidlu001@yahoo.com
davidlu55@hotmail.com
高密度二氧化矽薄膜(High Density Silicon Dioxide Films)
特點:用浸塗或自旋塗佈提供耐熱絕緣層
電子 – 半導體設計和電容的絕緣層
光學 –玻璃和石英表面的防擴散
說明:
Seramic SI is a -chloroethylsilsesquioxane solution in methoxypropanol.
薄膜特性:
透明
介電常數: 3.2-३.6
折射率:
硬化前-- १.५
硬化後-- 2.1-2.2
溶液性質
固含量 14-16%
密度 0.96 g/cc
黏度 3-5 cSt.
閃點 35°C
儲存: 5°C下密封,6個月. 打開前先加溫到 15°C
注意:
在通風無火源下使用, 避免皮膚和眼睛直接接觸
使用方法:
熱固化型-
用浸塗或自旋塗佈, 溶劑揮發後, 300°C 下加熱 30-60分鐘
自旋塗佈, 塗膜的厚度大約 1500-2000 Å
如果需要更薄, 可以用methoxypropanol 或diglyme 稀釋. 加熱過程有少量的乙稀和鹽酸氣體釋出
UV固化型- -
藉 deep UV (<210nm) 固化. 深紫外線照射區耐溶劑侵蝕, 未曝光區域可用溶劑洗去,
davidlu001@yahoo.com
davidlu55@hotmail.com
Labels:
Silicon Dioxide,
UV固化,
二氧化矽薄膜,
介電常數,
折射率
Wednesday, February 11, 2009
Tuesday, February 10, 2009
ELECTRONIC GRADE ADHESIVES
Manufacturer of Electronic Grade Adhesives /Adhesive films /Preforms for:
APPLICATION:
Chip Cap / Sensors, Electrical Grounding, Smart Card, Disk Drive, LCD, Semiconductor Grade, Chip Scale, Underfill, Lid Seal, Die Attach, Catheter, Optics, Class IV, Probe Cards, Encapsulants, Sealants, SMT, Wet Coil Winding, Coil Tacking, Heat Sink, HGA Assemblies, Pico-Nano Slider Bonds, Voice Coil to Armatures, Bearing Cartiridge, Spindle Motor, HUB to Media, Magnet Assembly, Screw Taper Proofing…..
PROPERTIES:
Flexible, Electrically Conductive, Thermally Conductive, Structural Bonding, Anisotropic, Siloxane, Polyurethane, Low Outgassing, High Temperature Resistant, Moisture Resistant, Low Temperature Cure, Snap Cure, High Humidity
BONDING SURFACES:
Aluminum, Brass, Ceramic, Copper, Ferrite, Glass, Gold, Lead, Mismatched CTE, Nylon, Plastic, Polyamide, Rubber, silver, Solder, Stainless Steel, Steel, PVC, Difficult Surfaces
APPLICATION:
Chip Cap / Sensors, Electrical Grounding, Smart Card, Disk Drive, LCD, Semiconductor Grade, Chip Scale, Underfill, Lid Seal, Die Attach, Catheter, Optics, Class IV, Probe Cards, Encapsulants, Sealants, SMT, Wet Coil Winding, Coil Tacking, Heat Sink, HGA Assemblies, Pico-Nano Slider Bonds, Voice Coil to Armatures, Bearing Cartiridge, Spindle Motor, HUB to Media, Magnet Assembly, Screw Taper Proofing…..
PROPERTIES:
Flexible, Electrically Conductive, Thermally Conductive, Structural Bonding, Anisotropic, Siloxane, Polyurethane, Low Outgassing, High Temperature Resistant, Moisture Resistant, Low Temperature Cure, Snap Cure, High Humidity
BONDING SURFACES:
Aluminum, Brass, Ceramic, Copper, Ferrite, Glass, Gold, Lead, Mismatched CTE, Nylon, Plastic, Polyamide, Rubber, silver, Solder, Stainless Steel, Steel, PVC, Difficult Surfaces
Friday, January 16, 2009
HiPer – texTM--高強度的R -Glass
HiPer – texTM是不含硼的補強玻璃纖維。它是高強度的 R -Glass。
按照ASTM C - 162 ,DIN 1259和ISO 2078 標準。 這種配方設計的玻璃纖維, 有優異的力學性能,更好的耐熱和耐腐蝕特性。
和 E glass 比較, HiPer – texTM的好處是:
-增加30%強度
-增加17%鋼性
-增加45%抗變形
-增加10倍的壽命
HiPer – texTM 可以和各種不同樹脂結合 主要應用:高附加價值複合材料製品,
尖端用途:
風力發電機葉片,防彈盔甲,航太製品, 高壓力缸,
運動器材用途:
滑雪板,滑雪桿,高性能網球拍,壁球和羽毛球拍,釣魚竿,弓箭,曲棍球棒, 高爾夫球頭,高爾夫球桿,賽車車壳,車輪,汽艇,遊艇, 輕質防彈衣,頭盔,工作鞋鞋頭, 腳踏車零件等。
按照ASTM C - 162 ,DIN 1259和ISO 2078 標準。 這種配方設計的玻璃纖維, 有優異的力學性能,更好的耐熱和耐腐蝕特性。
和 E glass 比較, HiPer – texTM的好處是:
-增加30%強度
-增加17%鋼性
-增加45%抗變形
-增加10倍的壽命
HiPer – texTM 可以和各種不同樹脂結合 主要應用:高附加價值複合材料製品,
尖端用途:
風力發電機葉片,防彈盔甲,航太製品, 高壓力缸,
運動器材用途:
滑雪板,滑雪桿,高性能網球拍,壁球和羽毛球拍,釣魚竿,弓箭,曲棍球棒, 高爾夫球頭,高爾夫球桿,賽車車壳,車輪,汽艇,遊艇, 輕質防彈衣,頭盔,工作鞋鞋頭, 腳踏車零件等。
Wednesday, December 17, 2008
Medical coating--Hydrophilic coating
Medical coating--Hydrophilic coating
醫療用導管已經使用幾十年.
基於使用方便和實際需要, 導管需要親水的潤滑處理.
Hydromer 的 Hydrophilic coating 是業界公認的無毒, 環保塗液.
Hydromer 的 coating 符合FDA GMP 和 ISO 13485-2003 標準.
Hydromer 塗液滿足所有醫療器材和設備的要求.
Hydromer coating 可以應用在PVC, TPU, Silicone rubber, Nylon, Pebax, PEEK, Polykeytone 及金屬表面.
醫療用導管已經使用幾十年.
基於使用方便和實際需要, 導管需要親水的潤滑處理.
Hydromer 的 Hydrophilic coating 是業界公認的無毒, 環保塗液.
Hydromer 的 coating 符合FDA GMP 和 ISO 13485-2003 標準.
Hydromer 塗液滿足所有醫療器材和設備的要求.
Hydromer coating 可以應用在PVC, TPU, Silicone rubber, Nylon, Pebax, PEEK, Polykeytone 及金屬表面.
Wednesday, December 10, 2008
Wednesday, December 03, 2008
成功案例----DL-1903w複材脫模劑
旋寶好企業有限公司 台北市信義路2段130-1號4樓-1
http://www.davidlu.net
成功案例----DL-1903w複材脫模劑
碳纖維腳踏車零件和羽毛球拍都是高單價的碳纖維制品.
市面上使用的脫模劑普遍存在離型劑轉移和後段塗裝困難的問題.
DL-1903w 是針對複材加工的問題而研發的解決方案.
DL-1903w是採用特殊高分子科技, 特別為環氧樹脂及複合材料加工設計的無毒環保脫模劑.
DL-1903w是水系離型劑, 不需MEK(有毒溶劑) 稀釋. 作業人員安全有保障..
使用方法:
1. 將模具表面清除乾淨直到用紙巾擦拭不再有油感..
2. 用噴槍或乾淨棉布將DL-1903w均勻 塗抹在模具表面,用熱風將水份吹乾,使模具表面覆上一層薄的脫模劑.
3. 重覆步驟2
4. 再重覆步驟2
5. 入料成型
6. 當感覺脫模稍微困難時, 重覆步驟2 並繼續成型.
包裝: 5 Gal,
儲存:
請在陰涼處存放.
http://www.davidlu.net
成功案例----DL-1903w複材脫模劑
碳纖維腳踏車零件和羽毛球拍都是高單價的碳纖維制品.
市面上使用的脫模劑普遍存在離型劑轉移和後段塗裝困難的問題.
DL-1903w 是針對複材加工的問題而研發的解決方案.
DL-1903w是採用特殊高分子科技, 特別為環氧樹脂及複合材料加工設計的無毒環保脫模劑.
DL-1903w是水系離型劑, 不需MEK(有毒溶劑) 稀釋. 作業人員安全有保障..
使用方法:
1. 將模具表面清除乾淨直到用紙巾擦拭不再有油感..
2. 用噴槍或乾淨棉布將DL-1903w均勻 塗抹在模具表面,用熱風將水份吹乾,使模具表面覆上一層薄的脫模劑.
3. 重覆步驟2
4. 再重覆步驟2
5. 入料成型
6. 當感覺脫模稍微困難時, 重覆步驟2 並繼續成型.
包裝: 5 Gal,
儲存:
請在陰涼處存放.
Thursday, November 20, 2008
無抗奶--不含抗生素的牛奶!
乳腺炎發病率最高的時間不是泌乳期,而是干奶期,干奶的前期和后期。
過去, 牛進入干奶期,必須對奶液的奶頭進行治療,干奶的藥必須打進去,有乳腺炎的就治療乳腺炎,沒有的話就把干奶的藥打進去,這個錢不能省,否則掩藏在裡面的乳腺炎到產后爆發,損失更大。干奶期乳腺是周期性的發育。
目前, 最先進的做法是用T-HEXX 對乳頭做保護.不再對乳頭注射抗生素.
這就是無抗奶--不含抗生素的牛奶!
過去, 牛進入干奶期,必須對奶液的奶頭進行治療,干奶的藥必須打進去,有乳腺炎的就治療乳腺炎,沒有的話就把干奶的藥打進去,這個錢不能省,否則掩藏在裡面的乳腺炎到產后爆發,損失更大。干奶期乳腺是周期性的發育。
目前, 最先進的做法是用T-HEXX 對乳頭做保護.不再對乳頭注射抗生素.
這就是無抗奶--不含抗生素的牛奶!
Monday, November 03, 2008
T-HEXX GREEN-S SYRUP 擠奶後乳頭保護液

不會垂滴,加水混合, 使用方便!
擠奶後乳頭浸泡濃縮液
環保--糖漿型
•1加侖糖漿可稀釋成10加侖
•減少浪費•節省運費
•節省儲存空間•更環保
用天然植物活性製成的”高性能濃縮擠奶後乳頭保護液”
讓T-HEXX保護您的牧群
“停止不必要的運輸開銷!
就地混合, 立刻使用!
T-HEXX環保糖漿•擠奶後乳頭保護•高效率防止生物體乳腺炎•T-HEXX糖漿不會垂滴灌,減少浪費和地板污染! •有效保護乳頭12小時! •配方適用所有類型的乳牛
1加侖糖漿==10加侖乳頭保護液

T-HEXX的創新技術, 是動物衛生的領導者.T-HEXX是乳牛業預防乳腺炎, 可以信任的產品。
所有天然植物活性取自: 牛至葉提取物,小球藻胸腺提取物, 錫蘭肉桂樹皮提取物,迷迭香葉提取物,薰衣草Augustifolia花提取物,佛手Limonum果皮提取物,薄荷葉提取物, Hydrastis 加拿大根提取物,油橄欖葉提取物。 T-HEXX是值得您信任的品牌。
如果你錯過 September 30 - October 4, 2008, Madison, WI USA
請參加
旋寶好科技
呂敏卿敬上----0933187255, 02-24927892
台北市信義路2段130-1號4樓之一
davidlu55@gmail.com
http://hi.baidu.com/T_Hexx/
擠奶後乳頭浸泡濃縮液
環保--糖漿型
•1加侖糖漿可稀釋成10加侖
•減少浪費•節省運費
•節省儲存空間•更環保
用天然植物活性製成的”高性能濃縮擠奶後乳頭保護液”
讓T-HEXX保護您的牧群
“停止不必要的運輸開銷!
就地混合, 立刻使用!
T-HEXX環保糖漿•擠奶後乳頭保護•高效率防止生物體乳腺炎•T-HEXX糖漿不會垂滴灌,減少浪費和地板污染! •有效保護乳頭12小時! •配方適用所有類型的乳牛
1加侖糖漿==10加侖乳頭保護液

T-HEXX的創新技術, 是動物衛生的領導者.T-HEXX是乳牛業預防乳腺炎, 可以信任的產品。
所有天然植物活性取自: 牛至葉提取物,小球藻胸腺提取物, 錫蘭肉桂樹皮提取物,迷迭香葉提取物,薰衣草Augustifolia花提取物,佛手Limonum果皮提取物,薄荷葉提取物, Hydrastis 加拿大根提取物,油橄欖葉提取物。 T-HEXX是值得您信任的品牌。
如果你錯過 September 30 - October 4, 2008, Madison, WI USA
請參加

旋寶好科技
呂敏卿敬上----0933187255, 02-24927892
台北市信義路2段130-1號4樓之一
davidlu55@gmail.com
http://hi.baidu.com/T_Hexx/
Thursday, October 30, 2008
野外活動保護液
野外活動, 我們的皮膚會
1. 接觸到不明樹和籐類散發出來的有毒分泌物
2. 遭受不明蚊蟲的叮咬
Hydromer Poison Oak & Ivy Barrier 提供妳最好的防護措施
使用方便----在頸部,臉部,手腳裸露處, 輕輕塗上一層, 2分鐘自然乾燥
安全保證----乾爽,不油,不傷皮膚, FDA 核可, 美軍庫存編號---MSN6505-01-441
有效時間---8小時
去除方法---肥皂 + 水
徵經銷商
連絡專線:0933187255,Mr. 呂
1. 接觸到不明樹和籐類散發出來的有毒分泌物
2. 遭受不明蚊蟲的叮咬
Hydromer Poison Oak & Ivy Barrier 提供妳最好的防護措施
使用方便----在頸部,臉部,手腳裸露處, 輕輕塗上一層, 2分鐘自然乾燥
安全保證----乾爽,不油,不傷皮膚, FDA 核可, 美軍庫存編號---MSN6505-01-441
有效時間---8小時
去除方法---肥皂 + 水
徵經銷商
連絡專線:0933187255,Mr. 呂
Wednesday, October 29, 2008
野外活動保護液
野外活動, 我們的皮膚會
1. 接觸到不明樹和籐類散發出來的有毒分泌物
2. 遭受不明蚊蟲的叮咬
Hydromer Poison Oak & Ivy Barrier 提供妳最好的防護措施
使用方便----在頸部,臉部,手腳裸露處, 輕輕塗上一層, 2分鐘自然乾燥
安全保證----乾爽,不油,不傷皮膚, FDA 核可, 美軍庫存編號---MSN6505-01-441
有效時間---8小時
去除方法---肥皂 + 水
徵經銷商
連絡專線:0933187255,Mr. 呂
1. 接觸到不明樹和籐類散發出來的有毒分泌物
2. 遭受不明蚊蟲的叮咬
Hydromer Poison Oak & Ivy Barrier 提供妳最好的防護措施
使用方便----在頸部,臉部,手腳裸露處, 輕輕塗上一層, 2分鐘自然乾燥
安全保證----乾爽,不油,不傷皮膚, FDA 核可, 美軍庫存編號---MSN6505-01-441
有效時間---8小時
去除方法---肥皂 + 水
徵經銷商
連絡專線:0933187255,Mr. 呂
Tuesday, October 28, 2008
बियो Chip

DL is an ink-jet printed DNA microarray substrate, custom designed and printed for your desired application using gold, silver or metal alloys as the metal coating layer. This highly functional substrate provides for higher immobilization of biomolecules (e.g., DNA, proteins, etc), no restrictions on pattern design, high sensitivity and longer shelf life for the DNA Microarray Solutions Provider.
1. Comparison of Substrate Characteristics
DL substrate
Conventional Metal slide
Metal Coating
Gold, silver, metal alloys
Gold only
Patterning Method
Inkjet Patterning
Vapor deposition, Sputtering
Pattern design
No restriction
Restricted
Immobilization ofBiomolecules
>300% (than aldehyde)>1000% (than gold)
100%
Chip Sensitivity
0.01~0.1pM
5000pM
2. Greatly enhanced surface structure using the leading nanotechnology processes - Superior to oligo slides due to a three dimensional Matrix-like surface with nano-metal particles- High immobilization ratio of biomaterial due to higher surface area of nanosized metal particles
3. High sensitivity and immobilization ratio of biomaterial through the use of ink-jet process
Product Characteristics
- Higher surface area with 3- dimensional porous structure- Low background and high immobilization efficiency- Small-to-medium size patterned spots with various diameter size- Metal ink patterned surface with higher stability and long shelf life compared to conventional gold slide- Enhanced signal-to-noise ratio- Mainly custom design
Product Applications
- DNA chip, Protein chip, Cell chip- Sensor substrates for diagnostic areahttp://hi.baidu.com/hydromer/
1. Comparison of Substrate Characteristics
DL substrate
Conventional Metal slide
Metal Coating
Gold, silver, metal alloys
Gold only
Patterning Method
Inkjet Patterning
Vapor deposition, Sputtering
Pattern design
No restriction
Restricted
Immobilization ofBiomolecules
>300% (than aldehyde)>1000% (than gold)
100%
Chip Sensitivity
0.01~0.1pM
5000pM
2. Greatly enhanced surface structure using the leading nanotechnology processes - Superior to oligo slides due to a three dimensional Matrix-like surface with nano-metal particles- High immobilization ratio of biomaterial due to higher surface area of nanosized metal particles
3. High sensitivity and immobilization ratio of biomaterial through the use of ink-jet process
Product Characteristics
- Higher surface area with 3- dimensional porous structure- Low background and high immobilization efficiency- Small-to-medium size patterned spots with various diameter size- Metal ink patterned surface with higher stability and long shelf life compared to conventional gold slide- Enhanced signal-to-noise ratio- Mainly custom design
Product Applications
- DNA chip, Protein chip, Cell chip- Sensor substrates for diagnostic areahttp://hi.baidu.com/hydromer/
Monday, October 13, 2008
冷凍門玻璃窗的防霧處理

#2266-188 和 #2098-SG61是市場上最夯的冷凍門玻璃窗防霧處理劑.
#2098-SG61可以和食品直接接觸, 符合食品衛生要求.
Hydromer Anti-Fog Coatings
在各種溫度和濕度下, Hydromer防霧塗料的凝結控制特性,有效的防止霧和薄霧的形成。
Hydromer Anti-Frost Coatings
在嚴酷的凍結環境下, Hydromer抗霜凍塗料的先進冷凝性能,有效的保持玻璃表面的光潔。
Water Droplet Coalescent
當表面濕度低於空氣的露點 ,多餘的水分會凝結在表面, 成為液滴,產生薄霧或霧。 Hydromer防霧塗料會減少液滴的表面張力,使水滴分散成無形的水膜。
Water Droplet Absorption
在零度以下,當溫暖 潮濕的空氣接觸到表面,過多的水分會快速在表面結晶。 在水還沒有結晶之前, Hydromer抗霜凍塗料會將凝結水吸收到塗層的高分子矩陣裡面.這也就是Hydromer會降低接觸角的原因。
技術服務:
旋寶好科技公司
台北市信義路2段130-1號4樓之一
T: 02-23569705, F: 02-23564036
服務熱線: 0933187255, 呂先生
Subscribe to:
Posts (Atom)


